Aspiration double flux et forçage en sortie latérale pour une finesse de grain garantie (< 10 mµ) avec 100 % du produit aspiré passant dans la zone de cisaillement
Temps de dispersion et d’émulsion réduit avec une intégration en fond de cuve à proximité de la vanne d’introduction de poudre sous vide pour une aspiration directe
Augmentation de la productivité et de la performance des installation